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        脈沖激光沉積系統

        • 大面積脈沖激光沉積/激光分子束外延系統
        • 大面積脈沖激光沉積/激光分子束外延系統
        大面積脈沖激光沉積/激光分子束外延系統大面積脈沖激光沉積/激光分子束外延系統

        大面積脈沖激光沉積/激光分子束外延系統

        • 大面積PLD
        • 大面積LMBE
        • 產品描述:荷蘭TSST公司開發的大面積脈沖激光沉積系統,可實現晶圓級薄膜外延生長。
        • 在線訂購

        荷蘭Twente Solid State Technology BV(TSST)公司專注于為用戶提供定制化的脈沖激光沉積系統(PLD),以及相關薄膜制備解決方案,公司具有20多年研究與生產脈沖激光沉積系統的經驗。

        TSST與世界最大的納米與微系統技術研究中心之一荷蘭Twente大學MESA+ Institute保持著密切合作,開發出各種脈沖激光沉積技術中需要使用的核心技術。

        大面積脈沖激光沉積實現原理:利用激光在條形靶材表面的掃描,實現大面積的薄膜生長;

        靶材臺展示:

        大面積樣品加熱臺展示:


        樣品生長結果(YSZ on Silicon):






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